紀念-逆向工程:上光
許家禎
「紀念—逆向工程:上光」的關注對象是日治時期沿用至今的紀念碑基座,過去這些紀念碑因為現代都市規劃而被設立,又於1949年後台灣政權輪替而遭到多變的處置,弔詭的是國民政府卻沿用了日本政府的基座,並另立新的雕像,基座與雕像經歷不同政權的宣傳形式,許家禎分別稱呼他們為「第一紀念」與「第二紀念」,而許家禎對於紀念碑的關注來自於過往受現代主義雕塑的養成背景,這個計畫的美學意識所呼應的是過往「基座」在現代主義的脈絡下,另類審視在地紀念碑歷史歷程,同時紀念這些基座的歷史遭遇。
這件作品提出另一種影像技術過程,首先將紀念碑進行3D掃描,不同於以往的攝影技法,也就是透過鏡頭、暗箱的紀錄過程,改以3D掃描、數位打光的方式紀錄,最後以濕版攝影呈現。影像成為銀粒子附著於黑玻璃板上,這些透過濕版成像的基座看起來像是懸浮在宇宙的隕石,也暗喻著去除雕像的權威,重新賦予基座新的視覺形象。
這個計畫反映出多叢的現代技術背景,從台灣日治時期現代化、雕像塑像技術與攝影技法,透過當代的技術輔助「逆向工程」,將歷史公共性紀念碑重新給予個人化的美學紀念。
許家禎
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